斥资千万欧元投资电子束光刻系统 这家德国公司意欲何为?

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近日,德国光学组件和传感器系统供应商Jenoptik斥资千万欧元,投资了一种新的电子束(E-Beam)光刻系统。据悉,新的电子束系统将由总部位于德耶拿的电子束技术专家Vistec Electron Beam GmbH公司研制,将于2022年中期在德国德累斯顿工厂投入使用。该系统是开发和生产下一代超精密传感器的核心部件,这对进一步开发DUV和在半导体生产过程中建立高精度EUV晶片曝光至关重要。


Jenoptik表示,新的电子束光刻系统能在300mm大小的基底上实现精度约10纳米的光刻(约为毛发直径的1/ 2000)。Jenoptik把这项技术作为超精密微光学制造的主要使能器,这是其传感器业务的功能核心。改进后的电子束光刻系统通过精度和灵活性的提高,为未来半导体曝光技术所需的传感器奠定了技术基础


2020年9月,Jenoptik收购了光学计量公司Trioptics 75%的股份,以期能进一步加强公司在光学和光电子领域的竞争力(尤其是测试和测量技术方面)。收购Trioptics后,Jenoptik预计全年收入将在7.55亿到7.75亿欧元之间。Jenoptik在光学、传感器技术和精密机械领域拥有超过150年的专业经验,是全球领先的高质量光学和微光学系统开发和生产合作伙伴之一,并致力于开发和引进先进的半导体光刻技术。


电子束曝光结构图

来自百度百科,作者tfihs2771


电子枪:高分辨率的热场发射,配有高压,电子束的能量通常在10~100KeV。

电子枪准直系统:对电子枪发出的电子束进行较直。

电磁透镜:与光学透镜类似,聚焦电子束。

消像散器:调节聚焦像散,减少误差。

光阑:改变电子束流。



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